常压等离子体技术、将为FPD制造工艺
提供全新的解决方案。
积水化学 常压等离子体
因其属于无需真空的常压工序、支持连续处理、能够轻松实现线上化
对气体无特定要求、均可产生等离子体
提供3种等离子体发生方式、可满足各类基材的需求
采用间隔型等离子体、能够避免在处理过程中对基材造成电气损伤
常压等离子体发生原理
凭借独家的等离子体发生技术、使得常压下均一辉光放电等离子体的发生成为可能
常规的常压放电
本公司的常压等离子体
等离子体处理方式
| 直接型 | 间隔型 | 焦点型 | |
|---|---|---|---|
| 处理示意图 |  |
 |
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| 等离子体照射方式 | 在电极间（等离子体区域）直接投放基板、进行照射 | 从缝隙中喷射出等离子体 进行照射 |
局部 照射等离子体 |
| 特 点 | 支持高速处理 | 无电气损伤 | 通过超高密度等离子体进行 局部处理 |
直接型
处理示意图
等离子体照射方式
在电极间（等离子体区域）直接投放基板、进行照射
特点
高速処理対応
间隔型
处理示意图
等离子体照射方式
从缝隙中喷射出等离子体、进行照射
特点
无电气损伤
焦点型
处理示意图
等离子体照射方式
局部照射等离子体
特点
通过超高密度等离子体进行局部处理
