<
特点・装置仕様
1辉光放电处理
实现高度均一性与薄膜零损伤（不产生粒子）
2高超的处理性能
在100m/min以上的速度下也有实绩
3对应各种产品的式样
拥有高达2500mm幅面的实绩、1头型或3头型
4无需真空的常压工序
便于加装到原有生产线上
对应宽度
~2500 mm
处理速度
~100 m/min
实用
电源、处理气体(N2、CDA)、排气、冷却水
用途
| 领 域 | 使用目的 |
|---|---|
| 光学薄膜领域 （偏光板等） |
用于功能膜涂层的预处理 ①提高涂层膜的密着性 ②帮助形成更薄的涂层 |
| PI、CCL |
对PI薄膜进行处理、 提高其与粘合剂及其他薄膜的密着性 |
| 其他薄膜 |
・PET、PP、PE等各类薄膜的印刷预处理 ・氟类薄膜等的润湿性改善等 |
基本处理性能
各类薄膜的接触角数据
未处理
等离子体处理后
※处理速度：30m/min
与聚酰亚胺及环氧树脂类粘合剂的粘合强度
查看其他产品
