積水大気圧プラズマ装置の特徴

01真空レス
真空機器が一切不要であるため、メンテナンス頻度の削減、立上げ時間を短縮
02低メンテンナンスコスト
年1回のメンテナンス頻度。主要電極部材は3年間の長期保証付!※1
03高スループット
高速搬送での追従性が大きく、大型基板・短タクト要求へ対応!
04低温プロセス
低温処理のため、有機レイヤーにも熱ダメージ与えず処理が可能!
05ダメージレス
LTPS、α-Si TFT基板に対しても電気的なダメージを与えず処理が可能!※2
06安価なガスで対応
プロセスガスは、価格が安価な窒素ガスおよびCDA(O2)のみ
07省スペース
プラズマヘッドは、EUVの1/2~1/3のスペースでコンベアへ搭載可能!
08高い処理性能
高密度プラズマのため処理性能が高い
09マルチガス対応
アルゴンガス、ヘリウム不要。バリエーションにより撥水処理も可能!
10幅広い用途
スポット処理(>1mm)から線状(<3000mm)まで対応。
ダイレクト処理(高速処理)とリモート(ダメージレス)処理

 

  • ※1. 装置のご使用内容に問題が無い場合とします。また、年1回の定期メンテナンスを行なっていただく事が条件となります。
  • ※2. 弊社実績。お客様の実基板でご確認願います。

積水の大気圧プラズマ装置への取り組み

沿革

  • 1993年 積水化学工業(株)綜合研究所にて大気圧プラズマ技術開発開始
  • 1996年 Heガスを使わない大気圧プラズマ放電に成功
  • 1997年 社内展開 1)大気圧プラズマCVDによる反射防止光学フィルムの開発
    2)ハイブリッド車向け2次電池用セパレーターの開発
  • 2000年 電子デバイス製造用装置事業を開始

・20年以上の実績があり、大気圧プラズマのパイオニアとして事業を推進
・600台以上の納入実績

製品情報

洗浄・アッシング
基材表面に付着している有機物を
分解・除去し、表面洗浄を行います

エッチング
基材表面の分子間結合を切断させ、
nmレベルで深さ方向に基材を削ります

表面改質(親水・撥水)
基材表面に官能基を形成し、処理対象物に親水性・撥水性を付与します

ガスの制限がなく、ガスを変更する事で様々な表面処理に対応可能

代表的な大気圧プラズマ装置のご紹介

代表的な4つの大気圧プラズマ装置について、用途や特長をご紹介します。

リモート型プラズマ処理装置

既存コンベアなどに組み込み可能なプラズマユニット
G10サイズ(約3m)までのユニット納入実績があります。

リモート型プラズマ洗浄装置RT-302(G10モデル)

特長・用途

特長

1.ダメージレス
  低温処理&電界遮蔽構造で、熱及び電気ダメージ無し

2.高い処理性能
  高速処理で接触角10°以下を達成(LCD向けガラス基板の処理)

3.豊富なラインナップ
  160~3400㎜幅まで対応

4.実績多数
  LCD工場をはじめ数多くの生産工程で海洋

図:水接触角イメージ

図:処理幅方向の水接触角測定結果

フィルム用プラズマ処理装置

RtoRでの製造工程に対応。親水性から撥水性までの処理が可能です。

3ヘッドタイプ

1ヘッドタイプ

特長・用途

特長

1.ロール電極採用による幅広/高速対応

2.ダメージレス

3.白粉発生極微量
→クリーンルーム対応

4.低オゾン発生
→環境負荷少

 

用途

偏光板などの機能性フイルム製造工程でのコーティング前処理など

スポット型プラズマ処理装置

マイクロ波を用いて大気圧で高密度プラズマを発生させます
狙った部分(φ4mm程度)のみの処理が可能です。

特長・用途

特長

1.高いプロセス処理能力
→2.45GHzの超高密度プラズマで高速処理が可能

2.低いランニングコスト
→エアーでの処理が可能

3.コンパクト設計、軽い用力
→電源、制御、ガスユニットを一体化

 

用途

 

LCD端子清掃

LCDの端子部をプラズマ
処理しACFの密着性を向上

自動車エンジン部分の油分洗浄

エンジンブロックの合わせ面
(黄色部)の油分を洗浄し接着剤(FIPG)の密着性を向上

枚葉基板向け処理装置(実験機タイプ)

A4サイズ程度の枚葉基板を処理することができます。

 

特長・用途

特長

1.小型装置
  A4サイズ程度までの枚葉処理に対応

2.様々な処理に対応
  リモート処理、ダイレクト処理どちらの方式も使用可能

3.実験用途に特化
  扱いやすい半自動タイプ

基板をステージに固定し、
プラズマヘッドが移動して全面処理をする。

お電話でのお問い合わせ メールでのお問い合わせ